Photomask被识别为光刻解决方案的关键推动器。因此，存在持续的研究来开发新的掩模材料和高NA EUV光刻。通过技术进步和引入新设备，对高芯片密度的需求增加，因此制造商正在开发高芯片密度的光掩模，实现更高的功能性能。这也导致创新技术的投资增加，为20nm和28nm晶圆制造产生光掩模。
对于大尺寸的光掩模的需求也推动了在包括电视，智能手机，PC，笔记本电脑等电子设备中使用平板显示器（FPD）的增加。FPD面罩正在越来越多地用于制造大型屏幕电子设备。关键球员还通过利用对大型光掩模的日益增长的需求来捕获市场份额。芯片上的系统（SOC）是一种IC，它用作复杂设备中的中央处理器，并且也在很大程度上在智能电子设备和智能小工具中使用。因此，对这些设备的需求不断增长导致对SOC的应用增加，从而需要特殊的光掩模设备和光掩模检查设备。同时，在各个行业中采用的东西（物联网）的采用增加了，因此对半导体的需求也在增长，这可能会推动达到的生长全球光掩模市场。
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全球光掩模市场的一些主要参与者是KLA-Tencor Corporation，Applied Material，Inc。，Photronics，Inc。，Nippon Filcon Co.，Ltd，Lasertec Corporation，Toppan Printics Co.，Ltd。，SK-Electronics Co.，Ltd，Hoya Corporation，LG Innotek Co.，Ltd和台湾面具公司。
全球光掩模市场目睹2017 - 2017年预测期间增长缓慢增长
根据透明市场研究（TMR）的最新报告，全球光掩模市场预计目睹增长缓慢。在2017 - 2017 - 2016年期间，市场预计将注册2.3％复古。到2026年底，全球光掩模市场可能会带来4,24910万美元的收入。
全球光掩模市场被分段为贸易类型，光掩模类型和技术类型。188体育投注登录基于光掩模类型，该段进一步分为掩模和主体。硕士照片预计将占最高收入份额。
贸易类型进一步分段为俘虏和商家。其中，预计俘虏将成为2017-2026期预测期间最大的贸易型段。通过技188体育投注登录术类型，市场段包括电子束，激光和乳液。预计乳液将在预测期间见证全球光掩模市场的增长。
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APEJ在全球光屏市场中仍然占主导地位
除日本（APEJ）之外，亚太地区预计将成为2026年的光掩模市场的主要收入贡献者之一。中国和韩国目睹了对半导体组件的巨大需求。与此同时，中国政府还提供支持，以提高国内委员会的生产。因此，预计该国IC的制造业的增长将提高对光掩模化的需求。主要电子设备制造商的存在也导致该地区的光掩模市场的增长。与此同时，美国还预计由于半导体制造商和平板显示器制造商的存在而引起的增长。
